HfNHfO2的精选知识

• 低原生缺陷密度的HfN/HfO2高K栅结构中界面反应导致的PBTI和NBTI

• 全部作者：萨宁杨红康晋锋第1作者单位：北京大学微电子所论文摘要：本文利用高温工艺制备了HfN/HfO2高K栅介质的n-FETs和p-FETs，内含原生缺陷密度较低，分别研究了正偏压-温度不稳定特性和负偏压-温度不稳定特性（PBTI和NBTI）。结果显示，Vt的不稳定性主要依赖于应力极性，而与衬底类型无...
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